發(fā)布日期:2024-08-30
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超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn):
我公司電子級(jí)超純水裝置出水水質(zhì)完全符合美國ASTM純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、我國電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。
電子級(jí)超純水設(shè)備工藝:
1、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光樹脂→精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
2、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光樹脂→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥18MΩ.CM)(新工藝)
3、預(yù)處理→一級(jí)反滲透→加藥機(jī)(PH調(diào)節(jié))→中間水箱→第二級(jí)反滲透(正電荷反滲膜)→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥17MΩ.CM)(新工藝)
4、預(yù)處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(新工藝)
5、預(yù)處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對(duì)象(≥15MΩ.CM)(傳統(tǒng)工藝)
電子級(jí)超純水設(shè)備前景:
電子級(jí)內(nèi)部安置有反滲透預(yù)脫鹽技術(shù),再次從根本上保障了設(shè)備的出水水質(zhì),與此同時(shí),EDI處理設(shè)備廢水產(chǎn)出量少,不會(huì)對(duì)環(huán)境造成污染,有非常高的環(huán)境效益、經(jīng)濟(jì)效益,其發(fā)展前景廣闊。